IMPLANTASI ION YTTRIUM UNTUK MENGHAMBAT LAJU OKSIDASI PADUAN TiAl PADA SUHU 800 °C

Lely Susita(1), Sayono Sayono(2), Tjipto Sujitno(3), Slamet Santoso(4),


(1) 
(2) 
(3) 
(4) 
Corresponding Author

Abstract


IMPLANTASI ION YTTRIUM UNTUK MENGHAMBAT LAJU OKSIDASI PADUAN TiAl PADA SUHU 800°C.
Paduan TiAl merupakan material yang mempunyai potensi sangat besar sebagai material struktur pada temperatur
menengah (600 – 850 °C) untuk industri otomotif dan ruang angkasa, karena mempunyai densitas rendah (3,8 gr/cm3)
dan kekuatan mekanik yang tinggi. Pada kisaran suhu ini terbentuk lapisan nonproteksi yang menyebabkan laju
pertumbuhan oksida yang cepat. Peningkatan sifat ketahanan oksidasi suatu material memerlukan rekayasa
permukaan karena oksidasi biasanya dimulai dari permukaan. Dalam penelitian ini telah dilakukan implantasi ion
yttrium (Y) pada permukaan paduan TiAl untuk meningkatkan sifat ketahanan oksidasi paduan tersebut. Dari hasil
pengamatan difraksi sinar X pada paduan TiAl menunjukkan bahwa implantasi ion Y menyebabkan terbentuk lapisan
Ti4Al43Y6 dan Y3Al2 serta lapisan oksida Y2O3, YTiO3 dan Y2TiO5 yang dapat menghambat difusi oksigen masuk ke
permukaan paduan TiAl untuk membentuk lapisan oksida, sehingga mengurangi laju oksidasi paduan TiAl.

Full Text: PDF (Bahasa Indonesia)

DOI: 10.17146/gnd.2009.12.2.151

Copyright (c) 2018 GANENDRA Majalah IPTEK Nuklir

Creative Commons License
This work is licensed under a Creative Commons Attribution-NonCommercial-ShareAlike 4.0 International License.