PENUMBUHAN FILM CdO DENGAN METODE CHEMICAL BATH DEPOSITION (CBD)
), Johan D. Sirait(2), Setyanto Tri Wahyudi(3),
(1) Departemen Fisika FMIPA - IPB Kampus IPB Darmaga, Bogor 16680
(2) Departemen Fisika FMIPA - IPB Kampus IPB Darmaga, Bogor 16680
(3) Departemen Fisika FMIPA - IPB Kampus IPB Darmaga, Bogor 16680
Corresponding Author
Abstract
PENUMBUHAN FILM CdO DENGAN METODE CHEMICAL BATH DEPOSITION (CBD). Film CdO ditumbuhkan pada supstrat kaca dalam dua tahap, yaitu deposisi dengan metode Chemical Bath Deposition (CBD) dan dilanjutkan dengan pemanasan pada 250 oC dan 400 oC. Morfologi film CdO memperlihatkan bentuk bongkahan berukuran sekitar 1 μm, sedangkan ketebalan filmsekitar 1 μm berdasarkan hasil SEM. Hasil analisis XRD memperlihatkan bahwa fasa kristal mengalami transformasi akibat pemanasan. Film yang dipanaskan pada 250 oC didominasi oleh fasa CdCO3 dan pemanasan lanjutan pada 400 oC berubah fasa CdCO3 menjadi fasa CdO. Fasa kristal CdO memiliki struktur FCC dengan nilai parameter kisi yang diperoleh sebesar 4,70 Å. Nilai celah pita energi (Eg) ditentukan berdasarkan spektrum transmisi film CdO,diperoleh nilai Eg sebesar 2,1 eV untuk kedua film.
Keywords
Film CdO, Metode CBD, Fasa Cd(OH)2, Fasa CdCO3
DOI: 10.17146/jusami.2008.10.1.4569
Email this article 
.png)
